发明名称 Leistungstransistoranordnung und Verfahren zu deren Herstellung
摘要 Bei dem erfindungsgemäßen kostengünstigen Verfahren zur Herstellung einer Leistungstransistoranordnung wird eine Trench-Leistungstransistoranordung (1) mit vier Strukturierungsebenen, die jeweils einen Lithografieschritt enthalten, hergestellt. Die erfindungsgemäße Leistungstransistoranordnung weist ein Zellenfeld (3) mit Zellenfeldgräben (5) auf, die jeweils eine Feld- (11) und eine Gate-Elektrodenstruktur (10) enthalten. Die Feld-Elektrodenstruktur (11) wird durch einen Anschlussgraben (6) im Zellenfeld (3) mit der Source-Metallisierung (15) elektrisch leitend verbunden.
申请公布号 DE10353387(A1) 申请公布日期 2005.06.30
申请号 DE20031053387 申请日期 2003.11.14
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 KOTEK, MANFRED;HAEBERLEN, OLIVER;POELZL, MARTIN;RIEGER, WALTER
分类号 H01L21/336;H01L29/40;H01L29/417;H01L29/423;H01L29/76;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/336 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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