发明名称 |
Leistungstransistoranordnung und Verfahren zu deren Herstellung |
摘要 |
Bei dem erfindungsgemäßen kostengünstigen Verfahren zur Herstellung einer Leistungstransistoranordnung wird eine Trench-Leistungstransistoranordung (1) mit vier Strukturierungsebenen, die jeweils einen Lithografieschritt enthalten, hergestellt. Die erfindungsgemäße Leistungstransistoranordnung weist ein Zellenfeld (3) mit Zellenfeldgräben (5) auf, die jeweils eine Feld- (11) und eine Gate-Elektrodenstruktur (10) enthalten. Die Feld-Elektrodenstruktur (11) wird durch einen Anschlussgraben (6) im Zellenfeld (3) mit der Source-Metallisierung (15) elektrisch leitend verbunden.
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申请公布号 |
DE10353387(A1) |
申请公布日期 |
2005.06.30 |
申请号 |
DE20031053387 |
申请日期 |
2003.11.14 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
KOTEK, MANFRED;HAEBERLEN, OLIVER;POELZL, MARTIN;RIEGER, WALTER |
分类号 |
H01L21/336;H01L29/40;H01L29/417;H01L29/423;H01L29/76;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/336 |
主分类号 |
H01L21/336 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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