| 发明名称 |
CLEANING SOLUTION FOR PHOTORESIST AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050066185(A) |
申请公布日期 |
2005.06.30 |
| 申请号 |
KR20030097436 |
申请日期 |
2003.12.26 |
| 申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
KIM, SAM YOUNG;JUNG, JAE CHANG |
| 分类号 |
G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/32 |
主分类号 |
G03F7/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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