| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING A SPACER OF GATE ELECTRODE USING PLASMA |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050064322(A) |
申请公布日期 |
2005.06.29 |
| 申请号 |
KR20030095680 |
申请日期 |
2003.12.23 |
| 申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
LEE, JU HEE;AN, SUNG WHAN |
| 分类号 |
H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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