| 主权项 |
1.一种微细图型之形成方法,其特征系于具有光阻图型之基板上被覆图型微细化用被覆形成剂后,藉由热处理使该图型微细化用被覆形成剂进行热收缩后,利用该热收缩作用,缩小光阻图型间之间隔,接着如此处理之基板以超过60秒的时间接触去除液后,使该图型微细化用被覆形成剂实质上完全去除者。2.如申请专利范围第1项之微细图型的形成方法,其中该图型微细化用被覆形成剂为含有水溶性聚合物者。3.如申请专利范围第2项之微细图型的形成方法,其中该水溶性聚合物为至少1种选自烷二醇系聚合物、纤维素系衍生物、乙烯系聚合物、丙烯系聚合物、系聚合物、环氧系聚合物、蜜胺系聚合物、及醯胺系聚合物中者。4.如申请专利范围第1项之微细图型的形成方法,其中该图型微细化用被覆形成剂为固形份浓度3~50质量%之水溶液者。5.如申请专利范围第1项之微细图型的形成方法,其中该方法系于基板上之光阻图型不引起热流动之温度下,加热之后,进行热处理者。 |
