| 主权项 |
1.一种负作用光可成像组成物,包含:A)基于A)加B)加C)的总重量在30及80wt%之间之形成薄膜的黏着剂聚合物,其具有足够的酸官能基以提供该光可成像组成物可于硷性水溶液中显影,该黏着剂聚合物A)包含具多峰分子量分布的聚合物及具有全部的重量平均分子量(Mw)在20,000及200,000之间;B)基于A)加B)加C)之总重量在19及69wt%之间之可与该黏着剂聚合物(A)交联的光可聚合单体;及,C)基于A)加B)加C)的总重量在0.05及2wt%之间之光起始剂。2.如申请专利范围第1项之组成物,其中该黏着剂聚合物A)之制备为:i)在聚合反应的重要部分期间连续变化起始剂/单体比率及单体混合物酸数量;或,ii)在聚合反应的重要部分期间相继变化起始剂/单体比率及单体混合物酸数量在二种程度之间。3.如申请专利范围第1项之组成物,其中该黏着剂聚合物A)具有全部的酸数量在100及235之间。4.如申请专利范围第2项之组成物,其中该起始剂/单体比率及单体混合物酸数量以有效量变化以于较早的聚合反应中制造具有重量平均分子量(Mw)在70,000及200,000之间同时酸数量在130及235之间的聚合物成分,接着制造具有重量平均分子量(Mw)在20,000及70,000之间及酸数量在100及130之间的聚合物成分。5.如申请专利范围第1项之组成物,其中该黏着剂聚合物A)包含一种具多峰分子量分布的酸官能性丙烯酸聚合物。6.一种负作用光可成像组成物,包括:A)基于A)加B)加C)的总重量在30及80wt%之间之具有足够的酸官能基之黏着剂聚合物,以提供该光可成像组成物可于硷性水溶液中显影,该黏着剂聚合物A)包含具多峰分子量分布的丙烯酸聚合物;B)基于A)加B)加C)之总重量在19及69wt%之间之加乘-可聚合的,-烯基未饱和化合物,能够与该黏着剂聚合物(A)利用自由基起始连锁-增长加乘聚合反应形成加乘聚合物;及,C)基于A)加B)加C)的总重量在0.05及2wt%之间之自由基产生光起始剂系统。7.如申请专利范围第6项之组成物,其中该黏着剂聚合物A)之制备为:i)在聚合反应的重要部分期间连续变化起始剂/单体比率及单体混合物酸数量;或,ii)在聚合反应的重要部分期间相继变化起始剂/单体比率及单体混合物酸数量在二种程度之间。8.如申请专利范围第6项之组成物,其中该光起始剂C)包含9-苯丫啶或其相当的事物。9.如申请专利范围第8项之组成物,进一步包括:D)相对于二安息香酸酯塑化剂A)加B)加C)的总重量计算在1及8wt%之间。10.如申请专利范围第9项之组成物,其中该黏着剂聚合物A)具有重量平均分子量(Mw)至少70,000。11.如申请专利范围第10项之组成物,其中该黏着剂聚合物A)具有酸数量至少130上至235。12.如申请专利范围第11项之组成物,其中该黏着剂聚合物A)衍生自甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯及丙烯酸正丁酯单体。13.一种乾膜光阻,包含:一种聚合物载体薄板及一层如在上面之申请专利范围第1项的光可成像组成物。14.一种乾膜光阻,包含:一种聚合物载体薄板及一层如在上面之申请专利范围第2项的光可成像组成物。图式简单说明:图1为制备标准(先述技艺)单分散黏着剂聚合物系统的制程图;图2为制备根据本发明之多峰黏着剂聚合物的制程图;图3为制备根据本发明之另一个多峰黏着剂聚合物的制程图;及图4为利用图1-3覆盖于每个其它之上的制程而制造的每个不同聚合物之分子量分布图。 |
