发明名称 FABRICATION METHOD OF POLY SILICON THIN FILM USING A MIXTURE OF AC AND DC FIELD AIDED LATERAL CRYSTALLIZATION PROCESS
摘要
申请公布号 KR20050058677(A) 申请公布日期 2005.06.17
申请号 KR20030090633 申请日期 2003.12.12
申请人 HANYANG HAK WON CO., LTD. 发明人 CHOI, DUCK KYUN;KIM, YOUNG BAE;KIM, HYUN CHUL;CHOI, SUNG HWA
分类号 H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/324 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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