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发明名称
FABRICATION METHOD OF POLY SILICON THIN FILM USING A MIXTURE OF AC AND DC FIELD AIDED LATERAL CRYSTALLIZATION PROCESS
摘要
申请公布号
KR20050058677(A)
申请公布日期
2005.06.17
申请号
KR20030090633
申请日期
2003.12.12
申请人
HANYANG HAK WON CO., LTD.
发明人
CHOI, DUCK KYUN;KIM, YOUNG BAE;KIM, HYUN CHUL;CHOI, SUNG HWA
分类号
H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/324
主分类号
H01L21/324
代理机构
代理人
主权项
地址
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