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发明名称
接合之形成方法及使用其形成之被处理物
摘要
本发明之课题系提供步骤简单、通量(throughput)高且可形成高精度浅接合的接合之形成方法。形成对应着所照射电磁波波长的适当基板表面状态,然后照射电磁波而使不纯物呈电活性化,藉由在不纯物薄膜内可效率佳的吸收激发能量之方式,以效率佳的形成浅接合。
申请公布号
TW200520063
申请公布日期
2005.06.16
申请号
TW093130808
申请日期
2004.10.08
申请人
松下电器产业股份有限公司
发明人
佐佐木雄一朗;水野文二;金成国
分类号
H01L21/268
主分类号
H01L21/268
代理机构
代理人
赖经臣
主权项
地址
日本
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