用以在半导体微影显影制程中减少缺陷的牺牲界面活性剂预沾湿

摘要

一种在基板上显影抗蚀剂之方法及设备，其中吾人首先将一牺牲含界面活性剂液体施加于抗蚀剂上作为前处理，以减少显影制程缺陷并改善显影制程时间及抗蚀剂不均匀性，前处理后则供应显影液至该抗蚀剂，之后再显影该抗蚀剂。