以微影制造微结构组件之光学系统及方法

摘要

一种微影曝光装置的光学系统包含至少一光学元件(L1到L16、15、16以及24)，该光学元件具有因应力引起的双折射以及至少实质上呈旋转性对称之一局部变化的双折射方向分布。至少一双折射校正元件(K1、K2；K’)由具有一与位置无关且至少实质上呈旋转性对称之双折射方向分布之一结晶体所组成。该结晶体具有一经指向的结晶晶格方向，使得其双折射方向分布至少本质上垂直于该至少一光学元件(L1到L16、15、16以及24)之局部变化的双折射方向。