| 发明名称 | 干膜光致抗蚀剂 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种具有高的图像分辨率、遮盖膜强度和保存稳定性的干膜光致抗蚀剂，本发明的干膜光致抗蚀剂具有支承体和感光性树脂组合物层，所述的感光性树脂组合物层至少含有：(A)具有羧基且不具有乙烯性不饱和键的聚氨酯树脂、(B)具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1627189A | 申请公布日期 | 2005.06.15 |
| 申请号 | CN200410094976.6 | 申请日期 | 2004.11.19 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 高桥秀知;田代朋子 |
| 分类号 | G03F7/027;G03F7/004;G03F7/20;H05K3/06 | 主分类号 | G03F7/027 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1.一种干膜光致抗蚀剂，其特征在于，具有支承体和感光性树脂组合物层，所述的感光性树脂组合物层至少含有：(A)具有羧基且不具有乙烯性不饱和键的聚氨酯树脂、(B)具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||