| 发明名称 | 二次曝光的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种二次曝光(Doppelbelichrung)的方法，尤其涉及一种光监控和评估例如纺织业或印刷业材料条的方法。这是一种通过形成的透射光和入射光监控运动材料条的方法，其中使用传感器行，其在条的宽度上单独或分组地延伸。本发明的特征在于：入射光源和透射光源产生进行其它照射的暗阶段，其明暗阶段通过选择传感器行调节。本发明可简化二次鉴定。 | ||
| 申请公布号 | CN1624529A | 申请公布日期 | 2005.06.08 |
| 申请号 | CN200310118784.X | 申请日期 | 2003.12.02 |
| 申请人 | 胡贝特·A·赫格斯 | 发明人 | 胡贝特·A·赫格斯 |
| 分类号 | G02F1/01;G02B27/00;G01N21/00;G06F3/00 | 主分类号 | G02F1/01 |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 经志强;曾建成 |
| 主权项 | 1.一种通过形成的透射光和入射光监控运动材料条的方法，其中使用传感器行，其在条的宽度上单独或分组地延伸，其特征在于：入射光源和透射光源产生进行其它照射的暗阶段，其明暗阶段通过选择传感器行调节。 | ||
| 地址 | 比利时艾纳腾 | ||