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发明名称 POLISHING PAD USING AN ABRASIVE-CAPSULATION COMPOSITION
摘要
申请公布号 KR20050052876(A) 申请公布日期 2005.06.07
申请号 KR20030086453 申请日期 2003.12.01
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 CHOI, YONG SOO
分类号 H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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