发明名称 无电解铜电镀液及使用该无电解铜电镀液之配线基板之制造方法
摘要 本发明系一种无电解铜电镀液,该无电解铜电镀液系以硫酸铜或氯化铜作为主成分,且含有选自于甲醛、2价之钴离子及乙醛酸中之1种以上之还原剂,同时含有分子量60以上、1000以下之如以下述通式(1)或通式(2)表示之离子系有机化合物,及分子量200以上、20000以下之亚氧烷基乙二醇,又,于纵横比高之微细之沟及孔中不会产生空隙且可堆积电镀膜:093130111-p01.bmp〔式中,n为整数,且X^1及X^2系分别独立地表示氢原子、SO3M基或PO3M基(M表示氢原子、硷金属原子或胺基),而L^1及L^2系分别独立地表示低级烷基或低级烷氧基〕。
申请公布号 TW200517526 申请公布日期 2005.06.01
申请号 TW093130111 申请日期 2004.10.05
申请人 关西TLO股份有限公司 发明人 新宫原正三;高萩隆行;王增林
分类号 C23C18/38 主分类号 C23C18/38
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 日本
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