清洁高介电常数材料沈积舱的方法

摘要

在此公开了一种乾法蚀刻和舱清洁高介电常数材料的方法。本发明一方面提供了一种从至少一部分反应器的表面清洁包含介电常数高于二氧化矽介电常数的物质的方法，包括：向反应器中引入包括含硼反应活性剂的第一气体混合物，其中第一气体混合物与在反应器中的物质反应，产生挥发性产物和含硼副产物；向反应器中引入包括含氟反应活性剂的第二气体混合物，其中第二气体混合物与反应器中的含硼副产物反应，形成挥发性产物；并从反应器中去除挥发性产物。