选择空白先罩基材的方法

摘要

选择空白光罩基材以用于一制程中，在制程中，至少光罩膜或相位偏移膜被沈积于空白光罩基材的上表面上以形成光罩，沈积的膜被图型化以形成光罩，以及光罩被安装于曝光工具中。藉由下述步骤以选取基材：模拟膜沈积于基材上表面上之前至光罩安装于曝光工具时基材上表面的形状变化；决定光罩安装于曝光工具中时将赋予上表面平坦形状的改变之前的基材上表面的形状；以及，选取具有此表面形状之基材作为可接受的基材。所选取的基材具有最佳化的上表面形状，增进光罩制造之生产力。