微光栅元件之制作装置

摘要

一种微光栅元件之制作装置，系应用全像术以拍摄出奈米级干涉条纹，进而制作出奈米级网状结构；由光源发射出的光束经过分光器、两反射镜之后会到达两相对称之出光模组，而由出光模组产生的两道光束经过相同长度之光路径后会投射至贴附于一半圆透镜之感光基板上，以于感光基板上产生一干涉条纹，将此感光基板旋转一角度后再进行曝光即可形成奈米级之网状结构。