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发明名称 PROCESS FOR THE PRODUCTION OF HIGH-MOLECULAR COMPOUNDS FOR PHOTORESIST
摘要
申请公布号 EP1491560(A4) 申请公布日期 2005.06.01
申请号 EP20030708604 申请日期 2003.03.14
申请人 发明人
分类号 C08F6/00;C08F6/02;C08F6/06;G03F7/039;(IPC1-7):C08F6/00;C08F20/18;C08F20/28 主分类号 C08F6/00
代理机构 代理人
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