发明名称 |
PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA POSITIVAS Y FOTOSENSIBLES. |
摘要 |
COMPOSICION FOTOSENSIBLE POSITIVA QUE MUESTRA UNA DIFERENCIA DE SOLUBILIDAD EN UN REVELADOR ALCALINO COMO ENTRE UNA PORCION EXPUESTA Y UNA PORCION NO EXPUESTA, QUE INCLUYE, COMO COMPONENTES INDUCTORES DE LA DIFERENCIA DE SOLUBILIDAD, (A) UN MATERIAL DE CONVERSION FOTOTERMICO, Y (B) UN COMPUESTO DE ALTO PESO MOLECULAR, CUYA SOLUBILIDAD EN UN REVELADOR ALCALINO ES MODIFICABLE PRINCIPALMENTE MEDIANTE UN CAMBIO DISTINTO A UN CAMBIO QUIMICO.
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申请公布号 |
ES2232844(T3) |
申请公布日期 |
2005.06.01 |
申请号 |
ES19970113521T |
申请日期 |
1997.08.05 |
申请人 |
LASTRA S.P.A. |
发明人 |
NAGASAKA, HIDEKI;MURATA, AKIHISA |
分类号 |
G03F7/004;B41C1/10;B41M5/36;B41M5/40;B41M5/46;B41N1/08;G03F7/00;G03F7/023;G03F7/027;G03F7/032;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):B41C1/10 |
主分类号 |
G03F7/004 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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