发明名称 具有覆盖钇铝层的部件的处理腔
摘要 基片处理腔部件是具有整体式表面层的结构,该层含有钇铝化合物。可以由含钇和铝构成的金属合金浇铸成该部件形状,并阳极化处理其表面以形成整体式阳极化表面层。该腔室部件也可以在预制金属模中用离子注入材料形成。该部件可以是腔壁、基片支座、基片传送器、供气设备、气体激发器和排气设备中的一个或多个。
申请公布号 CN1620522A 申请公布日期 2005.05.25
申请号 CN02828221.3 申请日期 2002.12.19
申请人 应用材料有限公司 发明人 韩念慈;徐立;石宏
分类号 C23C16/44;C23F4/00;H01L21/00;C23C14/48;C23C30/00;C25D11/04 主分类号 C23C16/44
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 赵蓉民
主权项 1.基片处理腔部件,包括具有由钇-铝化合物组成的整体性表面层的结构。
地址 美国加利福尼亚州