发明名称 低电容静电放电保护二极体
摘要 一种降低电容二极体,一第一导电层提供在一二极体中之焊垫与电源供应器扩散区域的导电连线。一第二导电层包括一个把该等焊垫扩散区域耦合到一焊垫的第一部份和一个把该等电源供应器扩散区域耦合到一电压供应器的第二部份。该第一与第二导电层的线在该二极体的二极体区域中系实质上彼此平行。此外,就一特征而言,要耦合到一供应器之二极体的抽头系比一最小宽度宽。
申请公布号 TWI233210 申请公布日期 2005.05.21
申请号 TW092135078 申请日期 2003.12.11
申请人 英特尔公司 发明人 马龙尼 提摩西;波恩 史帝芬
分类号 H01L29/861;H01L23/60 主分类号 H01L29/861
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种用以减少二极体电容之装置,包含: 一个提供在一二极体中之焊垫与电源供应器扩散 区域之导电连线的第一导电层; 一个包括一把该等焊垫扩散区域耦合至一焊垫之 第一部份和一把该等电源供应器扩散区域耦合到 一电压供应器之第二部份的第二导电层, 该第一和第二导电层的线在该二极体的二极体区 域中系实质上彼此平行。 2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中 至少一个电源供应器扩散区域的宽度系实质上比 与制造该二极体之处理之电源供应器扩散区域相 关之最小宽度大。 3.如申请专利范围第2项所述之装置,其中 该至少一个电源供应器扩散区域的宽度是比与制 造该二极体之处理之电源供应器扩散区域相关之 最小宽度大至少50%。 4.如申请专利范围第2项所述之装置,其中 把该等焊垫区域耦合到一焊垫之第二金属层的第 一部份从该二极体区域之一第一侧延伸不越过该 二极体区域的一半,且其中 把该等电源供应器区域耦合到一电压供应器之第 二金属层的第二部份从该二极体区域之一相对侧 延伸不越过该二极体区域的一半。 5.如申请专利范围第2项所述之装置,其中 该第二金属层之第一与第二部份中之每一者包括 延伸实质上越过该整个二极体区域的线。 6.一种二极体,包含: 至少一个第一电源供应器扩散区域,该至少一个第 一电源供应器扩散区域具有一个实质上比该第一 电源供应器区域之最小宽度大的宽度; 一个提供包括该至少一个第一电源供应器扩散区 域之焊垫与电源供应器扩散区域之导电连线的第 一金属层; 一个包括一把该等焊垫扩散区域耦合至一焊垫之 第一部份和一耦合该等电源供应器扩散区域俾可 接收一供应电压之第二部份的第二金属层,该第一 和第二金属层的线在该二极体的二极体区域中系 实质上彼此平行。 7.如申请专利范围第6项所述之二极体,其中 该至少一个第一电源供应器扩散区域具有一个比 该最小宽度大至少50%的宽度。 8.如申请专利范围第7项所述之二极体,其中 该等焊垫扩散区域具有一个实质上相等于与制造 该二极体之处理相关之焊垫扩散区域的最小宽度 。 9.如申请专利范围第6项所述之二极体,其中 与该第二金属层之第一与第二部份中之每一者相 关的线从该二极体区域的相对侧延伸不越过该二 极体区域的50%。 10.如申请专利范围第6项所述之二极体,其中 与该第二金属层之第一与第二部份中之每一者相 关的线延伸实质上越过该二极体区域的整个宽度 且该电源供应器扩散区域的宽度是比该电源供应 器扩散区域的最小宽度大至少100%。 11.一种输入缓冲器,包含: 一个接收一输入讯号的焊垫; 一第一二极体,该第一二极体具有一个被耦合至该 焊垫的第一端和一个被耦合俾可接收一第一供应 电压的第二端;及 一第二二极体,该第二二极体具有一个被耦合到该 焊垫的第一端和一个被耦合俾可接收一第二供应 电压的第二端, 其中,该第一与第二二极体中之至少一者包括一较 低水平的金属层和一相邻之较高水平的金属层,该 较低水平之金属层与较高水平之金属层的线在该 至少一个二极体的二极体区域中系实质上彼此平 行。 12.如申请专利范围第11项所述之输入缓冲器,其中, 该至少一个二极体更包含: 被耦合到该焊垫的焊垫扩散区域及被耦合俾可接 收对应之供应电压的电源供应器扩散区域,其中, 该等电源供应器扩散区域系实质上比该等电源供 应器扩散区域的最小宽度宽且该等焊垫扩散区域 系实质上在该等焊垫扩散区域的最小宽度。 13.如申请专利范围第12项所述之输入缓冲器,其中 该至少一个二极体的电源供应器扩散区域系比该 等电源供应器扩散区域的最小宽度宽至少50%。 14.如申请专利范围第12项所述之输入缓冲器,其中 该至少一个二极体之较高水平的金属层包括一个 把该等焊垫扩散区域耦合到该焊垫的第一部份和 一个耦合该等电源供应器扩散区域俾可接收对应 之供应电压的第二部份,该第一与第二部份的金属 线从该二极体区域的相对侧延伸不越过该二极体 区域的50%。 15.如申请专利范围第12项所述之输入缓冲器,其中 该至少一个二极体之较高水平的金属层包括一个 把该等焊垫扩散区域耦合到该焊垫的第一部份和 一个耦合该等电源供应器扩散区域俾可接收对应 之供应电压的第二部份,该第一与第二部份的金属 线从该二极体区域的相对侧延伸实质上越过该二 极体区域的整个宽度。 16.一种用以减少二极体电容之方法,包含: 于一二极体中设置抽头扩散区域,该等抽头扩散区 域系实质上比该等抽头扩散区域的最小宽度宽; 设置焊垫扩散区域; 设置一第一导电层,该第一导电层具有在一第一方 向上延伸越过该二极体之二极体区域的线,该第一 导电层具有被耦合到该焊垫与抽头扩散区域的导 电线;及 设置一第二相邻的导电层,该第二相邻的导电层具 有实质上与在该二极体区域中之第一导电层之线 平行的线。 17.如申请专利范围第16项所述之方法,其中 设置该等抽头扩散区域包括设置比该等抽头扩散 区域之最小宽度宽至少50%的抽头扩散区域。 18.如申请专利范围第16项所述之方法,其中 设置该第二导电层包括 设置该第二导电层之第一部份包括把该等焊垫扩 散区域耦合到一焊垫的第一线,及 设置该第二导电层之第二部份包括耦合该等抽头 扩散区域俾可接收一供应电压的第二线, 该等第一与第二线中之每一者从该二极体区域的 相对侧延伸不越过该二极体区域的50%。 19.如申请专利范围第16项所述之方法,其中 设置该第二导电层包括 设置该第二导电层之第一部份包括把该等焊垫扩 散区域耦合到一焊垫的第一线,及 设置该第二导电层之第二部份包括耦合该等抽头 扩散区域俾可接收一供应电压的第二线, 该等第一与第二线中之每一者从该二极体区域的 相对侧延伸实质上越过整个二极体区域。 20.如申请专利范围第19项所述之方法,其中 设置该等抽头扩散区域包括设置比该等抽头扩散 区域之最小宽度宽至少100%的抽头扩散区域。 图式简单说明: 第1图是为习知双二极体静电放电(ESD)保护方案的 示意图。 第2图是为一范例习知二极体布局的平面图。 第3图是为一习知二极体片断的横截面图。 第4图是为一实施例之二极体片断之布局的平面图 。 第5图是为一实施例之二极体片断的横截面图。 第6图是为另一实施例之二极体片断之布局的平面 图。 第7图是为一个显示一使用第4图或第6图之二极体 之实施例之输入缓冲器的示意图。 第8图是为一个显示用以布局一二极体之实施例之 方法的流程图。
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