半导体制造装置之处理管

摘要

【物品用途】本创作系有关于一种半导体制造装置之处理管之新式样设计，其主要用途乃于进行电浆处理时，令晶圆处于真空状态进行处理用的处理管。【创作特点】如各图所示，本创作基本上为一圆柱形管体，同时整体略呈瓶子状，于上方为具有凸缘状的管口部，且在管身的一侧向外突出配置一长矩形部，更于管体的底部形成开口状的设计，且于外表面形成阶状的凸缘设计，其详细的断面造形乃如第7图至第11图所示，其为一双层管状的设计，且于两侧形成圆形及长圆形的多数个开孔部，并于底面的凸缘之一侧形成一横孔，晶圆系由管底被送入处理管内进行电浆处理，期使晶圆获得绝佳的成品，达到品质良率高的晶圆制造功效；综上所述，本创作的该某设计虽是功能上的需求，但却在整体造形上形成特殊且深具科技感的造形，确为一理想美观之设计。

主权项

如图所示「半导体制造装置之处理管」之新式样 。 图式简单说明: 第1图系本创作之立体图。 第2图系本创作之前视图。(后视图与之对称) 第3图系本创作之右侧视图。 第4图系本创作之左侧视图。 第5图系本创作之俯视图。 第6图系本创作之仰视图。 第7图系本创作之A-A断面图。 第8图系本创作之B-B断面图。 第9图系本创作之C-C断面图。 第10图系本创作之D-D断面图。 第11图系本创作之E-E断面图。 第12图系本创作之使用状态参考俯视图。 第13图系本创作之使用状态参考前视图。