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Die Erfindung, welche ein Verfahren zur Überprüfung von periodischen Strukturen auf Lithographiemasken betrifft, bei dem mit einer abbildenden Optik eines Mikroskops ein Abbild der Struktur der Lithographiemaske erzeugt wird, liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Inspektion von Strukturen auf Lithographiemasken anzugeben, mit dem Abweichungen in der periodischen Struktur einer Lithographiemaske dargestellt werden, wobei eine bessere Abgrenzung der periodischen Struktur von einer Abweichung erreicht wird. Gemäß der Erfindung wird die Aufgabe dadurch gelöst, dass die Parameter Wellenlänge lambda, die numerische Apertur NA und die Kohärenz der Beleuchtung sigma der abbildenden Optik des Mikroskops so gewählt werden, dass die die Auflösungsgrenze für eine periodische Struktur (1) mit der Periode P beschreibende Ungleichung DOLLAR F1 erfüllt wird und dass das so erzeugte Abbild (5) der Struktur (1) nach Abweichungen in der periodischen Struktur (1) ausgewertet wird.
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