磁控式摇摆扫瞄型溅镀机

摘要

本发明公开了一种磁控式摇摆扫瞄型溅镀机，是由溅镀靶、基座以及长形磁铁所组成，溅镀靶的表面设有靶材并与基座相对应，靶材在经过溅镀之后是沉积于基座之上，而长形磁铁则是设置于溅镀靶的背面，并以来回摇摆方式控制靶材的沉积，其中长形磁铁在其二端是分别设有消磁装置，其可以避免长形磁铁二端的磁场强度过强而对溅镀的品质造成影响。

主权项

1.一种磁控式摇摆扫瞄型溅镀机，适用于一溅镀反应室，其特征在于包括：一溅镀靶，正面具有一靶材；一基座，与上述溅镀靶相对应，用以沉积经溅镀后的上述靶材；一长形磁铁，设置于上述溅镀靶的背面，并以来回摇摆方式控制上述基座表面的上述靶材的沉积；以及一消磁装置，设置于上述长形磁铁的二端，用以减弱上述长形磁铁二端的磁场强度。