| 主权项 |
1.一种盘体结构之改良,包括,一盘体,至少具有一平面位置以供置放牲礼;一支撑部,系设置于该盘体之前方位置,该支撑部包括有一支撑位置,其中该支撑位置系与盘体之平面位置具有一高度落差,以供支撑牲礼之头部者。2.依据申请专利范围第1项所述之一种盘体结构之改良,其中该支撑部系与该盘体系为一体成型,且该支撑部系由该盘体之平面位置前端向上延伸,并于该支撑部之顶端形成支撑位置者。3.依据申请专利范围第1项所述之一种盘体结构之改良,其中该支撑部为一柱体,该柱体系装置于该盘体平面位置之前端位置,且于该柱体之自由端形成支撑位置者。4.依据申请专利范围第3项所述之一种盘体结构之改良,其中该柱体系与该盘体一体成型者。5.依据申请专利范围第3项所述之一种盘体结构之改良,其中该柱体系插置于平面位置之前端位置者。6.依据申请专利范围第1项所述之一种盘体结构之改良,其中该支撑部系可上下移动,以调整该支撑位置与盘体平面之高度落差者。7.依据申请专利范围第1项所述之一种盘体结构之改良,其中该盘体之平面位置上系设有凹槽,藉该凹槽以置放牲礼,以防牲礼滑出者。8.依据申请专利范围第1项所述之一种盘体结构之改良,其中该支撑部系枢接于该盘体之前侧位置,使该支撑部之支撑位置可转动被调整与该盘体平面凹槽间之高度距离者。9.依据申请专利范围第1项所述之一种盘体结构之改良,其中该盘体之前方适当位置系设置有插槽,藉该插槽供祭祀者插香者。10.一种盘体结构之改良,包括,一盘体,至少具有一平面位置,以提供置放牲礼;一插槽,系形成于该盘体前方之适当位置,以提供祭祀者插置香者。11.依据申请专利范围第10所述之一种盘体结构之改良,其中该盘体之前侧位置系向上延伸出与该平面位置具有一高度落差之支撑部,藉该支撑部以支撑牲礼之头部者。图式简单说明:第1图系为本创作之立体示意图。第2图系为本创作之构件组装剖面示意图。第3图系为本创作之支撑部可做高度调整示意图。第4图系为本创作之支撑部可做转动调整示意图。第5图系为本创作另一种形状示意图。 |
