| 发明名称 | 电解铜箔生产生液工序的溶铜设备及方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及电解铜箔生产生液工序的溶铜设备和该设备的一种溶铜方法。其主要解决低温喷淋法存在的溶铜速度慢，运行费用高等问题，本发明方法采用液-气喷射泵对溶液充氧，使空气或氧气能与溶液实现乳化混合，溶液的化学反应氧化电位得到有效提高，从而加快了铜溶于稀硫酸的速度，一般情况下可比常规设备的溶铜速度提高八倍以上。本发明溶铜设备主要 构件由反应器容腔，液-气喷射泵，气液分离器和循环泵组成的体系，溶铜化学反应所释放的热能足以维持化学反应所需的温度。溶铜过程采用较低的酸度及微气泡层的表面覆盖作用能使硫酸和溶液的蒸发量得到抑制，从而进一步达到提高铜的直收率和改善环境的效果。 | ||
| 申请公布号 | CN1200145C | 申请公布日期 | 2005.05.04 |
| 申请号 | CN00114344.1 | 申请日期 | 2000.01.26 |
| 申请人 | 魏明星 | 发明人 | 魏明星 |
| 分类号 | C25C1/12;C01G3/10 | 主分类号 | C25C1/12 |
| 代理机构 | 武汉开元专利代理有限责任公司 | 代理人 | 王和平 |
| 主权项 | 1、一种用于电解铜箔生产生液工序的溶铜设备，包括反应器容腔(7)、折流盘(4)、液-气喷射泵(19)、气液分离器(2)和循环泵(22)所组成的体系，其特征是循环泵(22)的入口端和出口端，分别与气液分离器(2)和液-气喷射泵(19)入口联通，液-气喷射泵(19)出口端通入假底(5)和折流盘(4)之间，反应器容腔(7)下部与气液分离器(2)相连通。 | ||
| 地址 | 430063湖北省武汉市徐东大道逸居苑小区7号221室 | ||