发明名称 量测装置之改良
摘要 本创作系有关于一种量测装置之改良,主要该量测装置之底座上方具有可使流体流入于内部之一输入部及可使流体排出于外部之复数个贯通于底面的输出部,如此,当该流体于排出于底部时,可将整体量测装置往上提升,使得该量测装置于电路板上移动时,不至于会刮伤到电路板上的表面。
申请公布号 TWM263495 申请公布日期 2005.05.01
申请号 TW093211565 申请日期 2004.07.21
申请人 陈政平 发明人 陈政平
分类号 G01F1/00 主分类号 G01F1/00
代理机构 代理人 徐贵新 台北市大安区敦化南路2段98号22楼之1
主权项 1.一种量测装置之改良,其中包括有:一影像撷取装置,主要系撷取所量测到的影像;一底座,其一面与该影像撷取装置有连结之关系,且该底座系呈现贯穿中空之态样,而该底座与该影像撷取装置具连结关系之面更设有一输入部可使流体流入于底座内部,并于底座之另一面设有复数个输出部,将流入于底座内部之流体排出。2.如申请专利范围第1项所述之一种量测装置之改良,其中该影像撷取装置包括有:一影像撷取元件;一固定基座,系具有贯穿于该固定基座之一贯穿孔,而该影像撷取元件系可嵌固于该固定基座之贯穿孔内。3.如申请专利范围第2项所述之一种量测装置之改良,其中该固定基座具贯穿孔之一面系连接于至少三连接杆之一端,而该连接杆之另一端系连接于该底座具有输入部之面。4.如申请专利范围第1项所述之一种量测装置之改良,其中该底座之输入部系连接至一流体输出装置,以提供流体输入于底座之输入部。5.如申请专利范围第4项所述之一种量测装置之改良,其中,该流体输出装置连接至该输入部间可设有一控制系统。6.如申请专利范围第4项所述之一种量测装置之改良,其中该流体输出装置系可为一充气装置。7.如申请专利范围第1项所述之一种量测装置之改良,其中,该底座系包括有:一上底座;一下底座,系与该上底座相互嵌合固定。8.如申请专利范围第7项所述之一种量测装置之改良,其中,该上底座于嵌合处之面系具有一环状凹槽,且该输入部系贯穿于该环状凹槽。9.如申请专利范围第8项所述之一种量测装置之改良,其中,该下底部于嵌合处之面系具有搭配于该环状凹槽之环状凸件,该下底部之复数个输出部系贯穿于该环状凸件。10.如申请专利范围第9项所述之一种量测装置之改良,其中,该上底座与下底座嵌合时,该环状凹槽与该环状凸件间具有一空隙,以形成可使流体通行之流道。11.如申请专利范围第9项所述之一种量测装置之改良,其中,该下底座之环状凸件具有一槽道,可于上底座与下底座嵌合时,以形成可使流体通行之流道。图式简单说明:第1图系本创作之立体分解示意图;第2图系本创作之立体组合示意图;第3图系本创作之底座较佳实施例之剖视示意图;第4图系本创作之底座另一较佳实施例之剖视示意图。
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