| 发明名称 |
Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, mit einer optischen Halterung mit Aktuatoren |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE59911798(D1) |
申请公布日期 |
2005.04.28 |
| 申请号 |
DE19995011798 |
申请日期 |
1999.12.09 |
| 申请人 |
CARL ZEISS SMT AG |
发明人 |
MERZ, DIPL.-ING. (FH);BECKER, DIPL.-ING. (BA) |
| 分类号 |
G02B3/14;G02B7/02;G02B7/192;G02B27/00;G03F7/20;(IPC1-7):G02B7/02 |
主分类号 |
G02B3/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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