摘要 |
"MéTODO PARA O TRATAMENTO DE UMA SUPERFìCIE DE IMPLANTE DESTINADA A IMPLANTAçãO NO TECIDO óSSEO, E, IMPLANTE PARA A IMPLANTAçãO NO TECIDO óSSEO TENDO UMA SUPERFìCIE DE IMPLANTE". A invenção refere-se a um método para tratar uma superfície de implante destinada à implantação no tecido ósseo, em que e provida uma microrrugosidade, que compreende poros e picos tendo um diâmetro de <243> 1 <109>m, uma profundidade de poro de <243> 500nm, e uma largura de pico, em metade da profundidade do poro, de a partir de 15 a 150% do diâmetro do poro. A invenção refere-se também a um implante que compreende uma superfície tendo as características acima.
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