发明名称 大型连续印章
摘要 一种大型连续印章,包括一印面座设有凹槽供配置印面,印面座并结合一供握持的握持部,印面座设有横跨凹槽的至少一个长沟,每一长沟并自印面座上表面穿透至凹槽槽底,以及长沟边缘围绕有一凸墙位于印面座上表面。
申请公布号 TWM262360 申请公布日期 2005.04.21
申请号 TW093213191 申请日期 2004.08.18
申请人 李志伟 发明人 李志伟
分类号 B41K1/42 主分类号 B41K1/42
代理机构 代理人 田国健 台中市西区忠明南路497号17楼之2
主权项 1.一种大型连续印章,包括一印面座设有凹槽供配置发泡型印面,印面座并结合一供握持的握持部,其改良在于:印面座设有横跨凹槽的至少一个长沟,每一长沟并自印面座上表面穿透至凹槽槽底。2.依申请专利范围第1项所述之大型连续印章,其中,每一长沟边缘围绕有一凸墙位于印面座上表面。3.依申请专利范围第2项所述之大型连续印章,其中,握持部系一内空壳体,其底缘构成有一开口供与印面座相套合并覆盖前述长沟,握持部其中两对称侧面内凹形成一握持腰部。4.依申请专利范围第2项所述之大型连续印章,其中,握持部系一杆体并被结合至印面座上表面中央位置。图式简单说明:第1图系本创作大型连续印章主要构件分解立体。第2图系沿印面座之长沟补充印油之示意图。第3图系沿印面补充印油后之印油扩散示意图。第4图本创作第二实施例立体图。第5图系本创作第二实施例之平面剖视。第6图系习知大型连续印章之平面剖视。
地址 台中市北屯区安顺北二街16号