| 发明名称 |
METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND ATOMIC LAYER DEPOSITION OF METAL OXYNITRIDE AND METAL SILICON OXYNITRIDE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1523765(A2) |
申请公布日期 |
2005.04.20 |
| 申请号 |
EP20030765584 |
申请日期 |
2003.07.16 |
| 申请人 |
AVIZA TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
SENZAKI, YOSHIHIDE;LEE, SANG-IN |
| 分类号 |
H01L27/04;C23C16/30;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/822;H01L21/8242;H01L27/108;H01L35/24;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
H01L27/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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