| 发明名称 | 图案的形成 | ||
| 摘要 | 选择性地在基质上涂敷排斥阻挡组合物，然后在由所述阻挡组合物形成的空隙或通道内涂敷辐射能敏感材料。所述排斥阻挡组合物排斥所述辐射能敏感材料从而将其引入由所述阻挡组合物形成的空隙或通道内。除去所述排斥阻挡组合物从而在所述基质上形成图案。 | ||
| 申请公布号 | CN1607466A | 申请公布日期 | 2005.04.20 |
| 申请号 | CN200410088187.1 | 申请日期 | 2004.10.14 |
| 申请人 | 罗姆和哈斯电子材料有限责任公司 | 发明人 | R·K·巴尔;P·D·克努森;T·C·舒特 |
| 分类号 | G03F7/20;G03F7/00 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 任宗华 |
| 主权项 | 1.一种方法，包括：a)选择性地在基质上涂敷排斥阻挡组合物；b)在由所述排斥阻挡组合物形成的空隙内在所述基质上涂敷辐射能敏感材料；和c)除去所述排斥阻挡组合物从而在所述基质上形成图案。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞 | ||