发明名称 含有横向扩散金属氧化半导体电晶体之电子装置
摘要 本发明之LDMOS电晶体具有一阶梯式遮蔽结构及/或具有第一及第二汲极延伸区域,该第一汲极延伸区域具有高于该第二汲极延伸区域之掺杂剂浓度,且其被该遮蔽覆盖。
申请公布号 TW200514258 申请公布日期 2005.04.16
申请号 TW093125662 申请日期 2004.08.26
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 史帝芬 侨 希灵 亨利 度崴;HENRI;富理克 凡 瑞杰斯;派亚 克丽丝丁娜 安娜 哈码斯;ANNA;爱佛 布恩哈德 包威尔;亨利克斯 富理娜德 法兰西斯考斯 乔斯;FERDINAND FRANCISCUS
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰