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发明名称
含有横向扩散金属氧化半导体电晶体之电子装置
摘要
本发明之LDMOS电晶体具有一阶梯式遮蔽结构及/或具有第一及第二汲极延伸区域,该第一汲极延伸区域具有高于该第二汲极延伸区域之掺杂剂浓度,且其被该遮蔽覆盖。
申请公布号
TW200514258
申请公布日期
2005.04.16
申请号
TW093125662
申请日期
2004.08.26
申请人
皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人
史帝芬 侨 希灵 亨利 度崴;HENRI;富理克 凡 瑞杰斯;派亚 克丽丝丁娜 安娜 哈码斯;ANNA;爱佛 布恩哈德 包威尔;亨利克斯 富理娜德 法兰西斯考斯 乔斯;FERDINAND FRANCISCUS
分类号
H01L29/78
主分类号
H01L29/78
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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