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经营范围
发明名称
Abrasive Agent, Method for Polishing and Method for Production of Semiconductor Devices
摘要
申请公布号
KR100483411(B1)
申请公布日期
2005.04.15
申请号
KR20010010428
申请日期
2001.02.28
申请人
发明人
分类号
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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