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发明名称
PHOTORESIST POLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING IT
摘要
申请公布号
KR20050034093(A)
申请公布日期
2005.04.14
申请号
KR20030069898
申请日期
2003.10.08
申请人
HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人
LEE, GEUN SU
分类号
G03F7/027;(IPC1-7):G03F7/027
主分类号
G03F7/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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