| 摘要 |
<p>Bei einem Verfahren wird zur Beschichtung einer Substratoberfläche (4) unter Verwendung eines Plasmastrahles (2) auf die Substratoberfläche (4) ein Strahl (2) eines Niedertemperaturplasmas gerichtet. Dem Strahl (2) wird hierbei ein feinkörniges, die Beschichtung bildenes Pulver in genau dosierter Menge zugefügt. Vorteilhaft ist die Korngrösse des feinkörnigen Pulvers oder der Pulvergemische im Nanometerbereich, insbesondere zwischen 1 bis 10000 Nanometer. Damit kann das Pulver gut haftend und mit einer hohen Lebensdauer aufgetragen werden.</p> |
