发明名称 |
导电材料沉积和抛光用的磨具 |
摘要 |
描述了一种磨具(12),该磨具适用于导电材料的沉积和机械抛光,它包括:一个具有纹理表面(102)的抛光层,该抛光层包含粘合剂和与纹理表面(102)相背的第二表面,该抛光层还包括在其上延伸的第一凹槽(104);背衬(118)具有第一背衬表面和第二背衬表面,第一背衬表面与抛光层的第二表面接触,背衬(118)包含与第一凹槽(104)共同时延伸的第二凹槽(140、148),并从第一背衬表面穿过背衬延伸至第二背衬表面,第一凹槽(104)和第二凹槽(140、148)的相互尺寸上使得抛光层的纹理表面(102)在视线(a)以外。 |
申请公布号 |
CN1604834A |
申请公布日期 |
2005.04.06 |
申请号 |
CN02825001.X |
申请日期 |
2002.10.15 |
申请人 |
3M创新有限公司 |
发明人 |
P·S·卢格 |
分类号 |
B24B37/04;B24D3/28;B24D7/18;B24B57/02 |
主分类号 |
B24B37/04 |
代理机构 |
上海专利商标事务所 |
代理人 |
周承泽 |
主权项 |
1.一种适用于导电材料沉积和机械抛光的磨具,该磨具包括:具有纹理表面的抛光层,该抛光层包含粘合剂和与纹理表面相背的第二表面,抛光层还包含穿过该层而延伸的第一凹槽;具有第一和第二背衬表面的背衬,第一背衬表面与抛光层的第二表面接触,该背衬包含与第一凹槽共同延伸的第二凹槽,并从第一背衬表面开始,穿过背衬延伸至第二背衬表面;第一凹槽和第二凹槽在相对尺寸上使得抛光层的纹理表面在视线以外。 |
地址 |
美国明尼苏达州 |