| 摘要 |
本发明系以提供一种以简单的构成而具有使用效率之高的标靶的磁控管溅镀装置作为技术课题。本发明之解决手段方面，磁控管溅镀装置系由：真空室2、在上述真空室2内将标靶3保持之阴极4、在阴极4之上方做成与阴极4之标靶3侧对向之基板5保持的阳极6、在阴极4之下方使磁场产生用的永久磁铁7、及以标靶3的中心为轴而使上述永久磁铁7旋转之旋转控制装置12所组成，永久磁铁7系由：将磁铁固定的基部8、固定于基部8之部上的永久磁铁9、及固定于基部8之端部并将永久磁铁9围住，其磁极之极性与永久磁铁9相反且磁场强度比永久磁铁9更弱之永久磁铁10所组成，并且永久磁铁7的上部系切断成倾斜之形状。 |
