| 主权项 |
1.一种下游电浆反应器,包括:一反应腔,具有一底盘、一顶盖及围绕的侧壁及腔门;一气体系统,连通该反应腔以输入及排出反应气体;一电感线圈组态安置在该侧壁外,用以产生高密度电浆源;一交流电源产生器,提供该电感线圈组态所需之电流;一介电窗,介于该线圈组态及该反应腔之间;一金属挡板,位于该反应腔中;以及一旋转型直立承台模组,用以承载并转动处理的物件。2.如申请专利范围第1项之反应器,更包括一栅状式排气口放置于真空帮浦端,以帮助在该反应腔内形成稳定之气流。3.如申请专利范围第1项之反应器,其中该电感线圈组态包含一个或多个电感线圈以棋盘式正交排列。4.如申请专利范围第1项之反应器,其中该介电窗包括耐真空之介电材料。5.如申请专利范围第4项之反应器,其中该耐真空之介电材料包括氧化铝、铁氟龙、石英或其他陶瓷材料。6.如申请专利范围第1项之反应器,其中该金属挡板包括有孔或无孔的金属板。7.如申请专利范围第1项之反应器,其中该金属挡板可允许液体流入以便进行热交换。8.如申请专利范围第1项之反应器,其中该金属挡板可调整温度从摄氏0度至90度。9.如申请专利范围第1项之反应器,其中该金属挡板的大小大于或等于该高密度电浆源的大小,且所有处理之物件皆隐藏在该金属挡板遮蔽的范围内。10.如申请专利范围第1项之反应器,其中该旋转型直立承台模组包括:一旋转型直立承台,用以承载该处理的物件;一旋转轴,用以连接该旋转型直立承台;一密封构件,将该旋转轴与该腔体底盘紧密封住以维持该反应腔内的密封状态;一驱动器,用以驱动该旋转型直立承台转动;以及一电磁离合器,连接该旋转轴及该驱动器,并控制该驱动器与该旋转轴彼此间连接与分开。11.如申请专利范围第10项之反应器,其中该旋转型直立承台所承载的物件包括一个或多个板状物件或立体物件。12.如申请专利范围第11项之反应器,其中该板状物件包括晶圆、玻璃基板、印刷电路板或球闸阵列基板。13.如申请专利范围第11项之反应器,其中该立体物件包括整卷聚乙醯氨可挠式基板、覆晶封装基板或金属凸块。14.如申请专利范围第10项之反应器,其中该驱动器包括连续性或间歇性的转动,以改变该旋转型直立承台的角度。15.如申请专利范围第10项之反应器,其中该驱动器可调整不同转速。16.如申请专利范围第10项之反应器,其中该旋转型直立承台在转动时,所有装载物品之架子或卡匣之开口皆与该高密度电浆源成垂直。17.如申请专利范围第1项之反应器,其中该腔门具有一开关并与该电磁离合器连动。18.如申请专利范围第17项之反应器,其中该开关在该腔门开启时促使该电磁离合器成分离状态,当该腔门关闭时,该开关促使该电磁离合器成连接状态。图式简单说明:第一图系传统的下游电浆反应器;第二图系本创作的下游电浆反应器的侧面剖析图;第三图系本创作中腔门与电磁离合器关系示意图。第四图系本创作中多个电感线圈及气体分布走道之排列示意图。第五图系本创作中栅状排气口的示意图。第六图系本创作中具热交换能力之金属挡板的示意图。第七图系本创作中具热交换能力之有孔金属挡板的示意图。 |
