| 主权项 |
1.一种旋转韵律装置,其整体装置系包括有:一底座,为整体装置用以供相关构件组配的主要机械结构体;一摆转体,以倾斜方式轴设在底座上,并由其相对应的两个远端位置供使用者踩踏;俾构成一摆转体在往复摆动过程中,其两个相对应的远端系可同时配合交替上、下摆动的旋转韵律装置。2.如申请专利范围第1项所述旋转韵律装置,其中,该摆转体的两个相对应远端位置系设有踏板。3.如申请专利范围第1项所述旋转韵律装置,其中,该底座处系设有一限制组件,由该限制组件限制该摆转体往复摆动幅度。4.如申请专利范围第3项所述旋转韵律装置,其中,该限制组件系具有一框架,该框架系直设有两个壁板、该摆转体之转轴处系横伸有一延伸杆,该延伸杆即伸入该框架的两个壁板之间,由该框架限制该延伸杆于该两个壁板之间的区域摆动,俾达到限制该摆转体往复摆转幅度之效果。5.如申请专利范围第3项所述旋转韵律装置,其中,该限制组件系具有一框架,该框架系直设有两个壁板,该摆转体之转轴处系横伸有一延伸杆,该延伸杆即伸入该框架的两个壁板之间,由该框架限制该延伸杆于该两个壁板之间的区域摆动,且该延伸杆之尾端系设有一弹性元件,以缓冲该延伸杆与该两壁板之撞击力。6.如申请专利范围第3项所述旋转韵律装置,其中,该限制组件系具有一框架,该框架系直设有两个壁板,该摆转体之转轴处系横伸有一延伸杆,该延伸杆即伸入该框架的两个壁板之间,由该框架限制该延伸杆于该两个壁板之间的区域摆动;该框架之底端系与该底座相枢接,另在该框架处螺设有一螺栓,俾由旋转该螺栓改变该框架与该延伸杆的相对应位置,以达到调整该摆转体往复摆转幅度大小之目的。7.如申请专利范围第3项所述旋转韵律装置,其中,该限制组件系由分别固设在该底座上的两个挡止块所构成,各该挡止块系配设在该底座相对应于该摆转体两个远端的下降位置处。8.如申请专利范围第7项所述旋转韵律装置,其中,各该挡止块系由弹性元件所构成。9.如申请专利范围第1项所述旋转韵律装置,其中,该摆转体与该底座之相对应活动位置处系设有一阻尼构件。10.如申请专利范围第9项所述旋转韵律装置,其中,该阻尼构件系设有一与该底座螺接的调节旋钮,该调节旋钮系穿设有一与摆转体构成接触的摩擦块。11.如申请专利范围第9项所述旋转韵律装置,其中,该阻尼构件系设有一与该底座联结的夹体,该夹体系由一底板与一活动夹板所构成,另有一调节旋钮穿过该活动夹板并且与该底板相螺接,该摆转体之转轴处系固设有一相对应伸入该底板与该活动夹板之间的延伸板,该夹体分别在该底板以及该活动夹板的内侧面固设有摩擦块。12.如申请专利范围第9项所述旋转韵律装置,其中,该阻尼构件系设有一与该底座联结的夹体,该夹体系由一底板与一活动夹板所构成,另有一调节旋钮穿过该活动夹板并且与该底板相螺接,该摆转体之转轴处系固设有一相对应伸入该底板与该活动夹板之间的延伸板,该夹体分别在该底板以及该活动夹板的内侧面固设有摩擦块,该调节旋钮系穿设有与该活动夹板相接触的弹性衬垫。13.如申请专利范围第1项所述旋转韵律装置,其中,该底座系斜设有一穿轴,该摆转体之中心设有一相对应与该穿轴相套接的轴套。14.如申请专利范围第1项所述旋转韵律装置,其中,该底座系斜设有一穿轴,该摆转体之中心设有一相对应与该穿轴相套接的轴套;该摆转体与该底座之相对应活动位置处系设有一阻尼构件,该阻尼构件系设有一穿过该轴套并且与该穿轴相螺接的调节旋钮,该调节旋钮系穿设有一与该轴套构成接触的弹性衬垫、夹体及磨擦块。15.如申请专利范围第1项所述旋转韵律装置,其中,该底座系斜设有一轴套,该摆转体之中心设有一相对应与该轴套相套接的穿轴。图式简单说明:第一图系为一习用踏步机之外观立体图。第二图系为本创作第一实施例之旋转韵律装置外观立体图。第三图系为本创作中摆转块呈往复摆转动作示意图。第四图系为本创作中摆转块之两个远端呈交替上、下运动之动作示意图。第五图系为本创作第一实施例之旋转韵律装置结构分解图。第六图系为本创作第一实施例之旋转韵律装置结构剖视图。第七图系为本创作中限制组件之调整动作示意图。第八图系为本创作中限制组件的框架与延伸杆相对应位置改变状态示意图。第九图系为本创作第二实施例之旋转韵律装置结构剖视图。第十图系为本创作第三实施例之旋转韵律装置结构剖视图。第十一图系为本创作第四实施例之旋转韵律装置外观立体图。 |
