化学增幅型光阻剂组成物之树脂

摘要

一种高分子聚合物，其系含有如下式(II)之结构单元 (II)其中R1为H或C1-C4的烷基；R2为羟基、C1-C8烷氧基或 C1-C8烷硫基；G为(CH2)n、氧或硫，其中n为0~4的整数；Rc为一内酯基；m为1~3的整数。本发明之高分子聚合物具良好亲水性、附着性及抗乾性蚀刻的特性，可用于制备化学增幅光阻剂组成物，此化学可以应用在一般的微影成像制程，尤其是波长193nm光源的微影成像制程，并具有极佳的解析度、轮廓及感光度。

主权项

1.一种高分子聚合物,其系含有如下式(II)之结构单元其中R1为H或C1-C4的烷基;R2为羟基、C1-C8烷氧基或C1-C8烷硫基;G为(CH2)n、氧或硫,其中n为0~4的整数;Rc为一内酯基;m为1~3的整数。2.如申请专利范围第1项之高分子聚合物,其中R1为氢或甲基。3.如申请专利范围第1项之高分子聚合物,其中R2为羟基、C1-C4烷氧基或烷硫基。4.如申请专利范围第1项之高分子聚合物,其中m为1的整数。5.如申请专利范围第1项之高分子聚合物,其中G为(CH2)n,n为0、1或2的整数。6.如申请专利范围第1项之高分子聚合物,其中G为氧或硫。7.如申请专利范围第1项之高分子聚合物,其为如下式(II-1)、(II-2)、(II-3)、(II-4)、(II-5)、(II-6),或(II-7)之高分子聚合物: