| 主权项 |
1.一种集墨装置,用于一喷墨头的清洁装置中,包括:一第一斜面;一第二斜面,该第二斜面之侧边相邻于该第一斜面之下端;一平面,相邻于该第二斜面之下端;以及一第三斜面,该第三斜面之上端相邻于该平面;该喷墨头所喷出的墨水,经由该第一斜面与该第二斜面滙集于该平面后,再经由该第三斜面排出于该集墨装置。2.如申请专利范围第1项所述之集墨装置,其更包括一第一肋形构造设于该第一斜面上。3.如申请专利范围第2项所述之集墨装置,其中该第一肋形构造系从该第一斜面之上端朝该第一斜面之下端延伸。4.如申请专利范围第1项所述之集墨装置,其更包括一第二肋形构造设于该第二斜面上。5.如申请专利范围第4项所述之集墨装置,其中该第二肋形构造系从该第二斜面之上端朝该第二斜面之下端延伸。6.如申请专利范围第1项所述之集墨装置,其更包括一第三肋形构造设于该集墨装置之周围。7.如申请专利范围第1项所述之集墨装置,其更包括一沟槽设于该第一斜面之上端,且平行于该第二斜面之延伸方向。8.一种喷墨头的清洁装置,包括:一外框架;一滑架,设于该外框架上,并沿一第一方向,在一起始位置以及一极限位置之间滑动;一集墨装置,设于该滑架上;一刮墨片,可滑动地设于该滑架上;一吸收垫,设于该外框架上,并在该起始位置接触于该集墨装置;以及一锁扣件,设于该滑架上;该喷墨头藉由该锁扣件带动该滑架沿该第一方向移动之同时,该刮墨片沿一第二方向移动,该第一方向与该第二方向相互歪斜。9.如申请专利范围第8项所述之喷墨头的清洁装置,其更包括一刮片,设于该滑架上。10.如申请专利范围第8项所述之喷墨头的清洁装置,其中该集墨装置包括:一第一斜面;一第二斜面,该第二斜面之侧边相邻于该第一斜面之下端;一平面,相邻于该第二斜面之下端;以及一第三斜面,该第三斜面之上端相邻于该平面;该喷墨头所喷出的墨水,经由该第一斜面与该第二斜面滙集于该平面后,再经由该第三斜面排出于该集墨装置。11.如申请专利范围第8项所述之喷墨头的清洁装置,其中该滑架具有一第一滑槽,该刮墨片可滑动地嵌合于该第一滑槽中。12.如申请专利范围第11项所述之喷墨头的清洁装置,其中该外框架具有一第二滑槽,该刮墨片同时可滑动地嵌合于该第一滑槽与该第二滑槽中,藉此当该滑架沿该第一方向移动之同时,使该刮墨片沿该第二方向移动。13.如申请专利范围第8项所述之喷墨头的清洁装置,更包括一第三滑槽,设于该外框架上,而该锁扣件具有一突出部,可滑动地嵌合于该第三滑槽内。14.如申请专利范围第13项所述之喷墨头的清洁装置,其中该第三滑槽之形状使该突出部于其中滑动至该极限位置之同时,该锁扣件可与该喷墨头分离。15.如申请专利范围第8项所述之喷墨头的清洁装置,其中该集墨装置与该滑架系一体成形。16.一种喷墨头的清洁方法,包括下列步骤:提供一喷墨头的清洁装置,包括一集墨装置;一滑架,承载该集墨装置;一刮墨片,可滑动地设于该滑架上;以及一吸收垫;该喷墨头喷出墨水,并滙集于该集墨装置中;该喷墨头带动该滑架自一起始位置沿一第一方向移动之同时,该刮墨片沿一第二方向移动而刮除该喷墨头上残留的墨水;以及该滑架回到该起始位置之同时,该集墨装置中所收集的墨水排出并由一吸收垫所吸收。17.如申请专利范围第16项所述之喷墨头的清洁方法,其中该第一方向与该第二方向互相歪斜。18.如申请专利范围第16项所述之喷墨头的清洁方法,其中该清洁装置更包括一回复装置,该滑架系藉由该回复装置回到该起始位置。图式简单说明:第1图为本发明之喷墨头清洁装置的立体组合图。第2图为本发明之喷墨头清洁装置的立体分解图。第3图为本发明之集墨装置的俯视图。第4图为沿第3图之A-A线的剖视图。第5图为本发明之喷墨头清洁装置的立体图(从另一角度观之)。 |
