| 主权项 |
1.一种基板测试装置,其系藉由电子束照射测试一基板之装置,其包含以下构成单元:一扫描参数计算单元,其用于根据作为一欲测试物件之每一基板物种而设定的一单位区域内的测量点之一阵列,计算一平台速度及电子束之一照射位置,该平台速度为用于支撑与移动置放于其上的基板之一平台之一速度;一平台控制单元,其用于控制该平台之移动;以及一电子束控制单元,其用于控制该电子束之照射位置;其中该平台控制单元以一计算所得之平台速度驱动该平台,且该电子束控制单元与该平台之移动同步控制一计算所得之电子束照射位置。2.如申请专利范围第1项之基板测试装置,其中进一步包括以下构成单元:一测量点获取单元,其用于根据为每一基板物种而设定之基板物种资讯,获取在该单位区域内的测量点之该阵列。3.如申请专利范围第2项之基板测试装置,其中该基板物种资讯系在该单位区域内的测量点之该阵列或用于指定该基板类型之基板物种,而该测量点获取单元藉由直接输入之以获取测量点之该阵列,或藉由输入该基板物种并参考该基板物种与测量点之该阵列之间的对应关系资料以获取相对应之测量点阵列。4.一种基板测试方法,其系用于藉由电子束照射测试一基板之方法,其包含以下步骤:根据为作为一欲测试物件之每一基板物种而设定的一单位区域内的测量点之一阵列,计算一平台速度及电子束之一照射位置,该平台速度系用于支撑并移动置放于其上之基板之一平台之一速度;以一计算所得之平台速度驱动该平台;以及与该平台之移动同步,控制电子束之一计算所得之照射位置。5.如申请专利范围第4项之基板测试方法,其中进一步包括以下步骤:根据为每一基板物种而设定之基板物种资讯,获取在该单位区域内的测量点之该阵列。6.如申请专利范围第5项之基板测试方法,其中该获取步骤包括藉由直接输入之以获取测量点之该阵列,或藉由输入该基板物种并参考该基板物种与测量点之该阵列之间的对应关系资料以获取测量点之该相对应阵列。图式简单说明:图1系说明本发明之一基板测试装置之一示意性方块图;图2A、2B系说明依据本发明之该平台移动与该电子束照射位置之间关系之图式;图3系用于说明依据本发明该平台移动与该电子束照射位置之间关系之图式;图4系一表,显示本发明之基板物种资讯之一例;以及图5A及5B系说明一单位区域内测量点之一阵列之图式。 |
