| 发明名称 |
Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| 摘要 |
A lithographic apparatus uses the control signal from a computer to drive two spatial light modulators to pattern two separate projection beams for projection onto two substrates. |
| 申请公布号 |
US6870601(B2) |
申请公布日期 |
2005.03.22 |
| 申请号 |
US20030457786 |
申请日期 |
2003.06.10 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
LIEBREGTS PAULUS MARTINUS MARIA;BLEEKER ARNO JAN;LOOPSTRA ERIK ROELOF;BORGGREVE HARRY |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03B27/42;G03B27/54 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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