光面构造及其制造方法

摘要

本发明之目的：系欲予提供具有与铬电镀同样之外观而富有延展性、耐蚀性，且以不需要作排水处理之乾式电镀法就能获得之经予光面处理的金属材料及树脂材料以及该等材料之制造方法。本发明之构成：本发明之光面构造系以(a)，在金属材料或树脂材料之上予以形成树脂涂膜，(b)，由不锈钢、钛合金或镍合金所成而表面为平滑之金属薄膜，或者，(b’)，由不锈钢、钛合金、镍合金、铝、钛或铬所成，而表面为平滑之金属薄膜予以形成在树脂涂膜之上，以及(c)，在金属薄膜之上予以形成透明性保护膜，或(c’)透明性着色保护膜，所成。本发明之制造方法为上述本发明之光面构造的制造方法。

主权项

1.一种光面构造之制造方法,其特征在于包含下述步骤:(a)第1步骤,系在铝轮圈上形成表面为平滑之树脂涂膜;及(b)第2步骤,系将钛合金所构成之表面为平滑之金属薄膜,形成在该树脂涂膜上;又,该钛合金系钛之含有量为20~80重量%、铝之含有量为20~80重量%者;且金属薄膜系利用阴极弧光式离子电镀法或溅射镀膜法予以形成,并且在该阴极弧光式离子电镀法或溅射镀膜法中使用烧结标靶来进行。2.如申请专利范围第1项之光面构造之制造方法,进一步包含:(c)第3步骤,系在前述金属薄膜上形成(c)透明性保护膜。3.如申请专利范围第1或2项之光面构造之制造方法,其中:树脂涂膜系利用粉体涂装法形成。4.如申请专利范围第1或2项之光面构造之制造方法,其中:由钛合金所构成之金属薄膜乃形成为膜厚0.03~1.0m。5.如申请专利范围第2项之光面构造之制造方法,其中:透明性保护膜之膜厚乃形成为5~20m。图式简单说明:第1图系以有关本发明之第1实施例以及本发明之第4实施例之方法所制造且予光面处理之材料的截面图。第2图系以有关本发明之第2实施例以及本发明之第5实施例之方法所制造且予光面处理之材料的截面图。第3图系以有关本发明之第3实施例以及本发明之第6实施例之方法所制造且予光面处理之材料的截面图。