| 主权项 |
1.一种位相差式防伪方法,其提供两片具有隐藏图 样之位相差片,其一为贴于待保护物品上之防伪标 签,称第一位相差片,以及一片检验待测物之真伪 的辨识装置,称第二位相差片;该两片位相差片上 包含有隐藏图样区域与背景区域;当该第一位相差 片与第二位相差片适当叠和,再与可产生偏极光之 装置及可过滤偏极光之装置结合后,可使该隐藏图 样区域与该背景区域产生不同之透光率而显示出 该隐藏图样。 2.如申请专利范围第1项所述之位相差式防伪方法, 其中该第一与第二位相差片未适当叠合并与产生 偏极光之装置及可过滤偏极光之装置结合前,其隐 藏图样区域与背景区域均无法以人眼分辨;第一与 第二位相差片经适当叠合并与产生偏极光之装置 及可过滤偏极光之装置结合后所显示出之隐藏图 样可以人眼或机器辨识的方式加以判读其真伪。 3.如申请专利范围第1项所述之位相差式防伪方法, 其中该隐藏图样区域与该背景区域具有不同之位 相差,而隐藏图样区域与背景区域之位相差可分别 由第一位相差片与第二位相差片之相对应位置之 位相差加总而成。 4.如申请专利范围第3项所述之位相差式防伪方法, 其中该第一位相差片及第二位相差片可以乱点图 方式将其隐藏图样与背景区域之位相差分散至两 片位相差片上。 5.如申请专利范围第3项所述之位相差式防伪方法, 其中该第一位相差片及第二位相差片可以条纹图 方式将其隐藏图样与背景区域之位相差分散至两 片位相差片上。 6.如申请专利范围第1项所述之位相差式防伪方法, 其中该偏极光产生及过滤装置可为一对偏光片与 一光源,其中该一对偏光片分别放置于该第一位相 差片(防伪标签)与该第二位相差片(辨识装置)适当 重叠后整体之上方与下方,该光源则入射于一偏光 片后,则可从另一偏光片处显示出隐藏图样。 7.如申请专利范围第6项所述之位相差式防伪方法, 其中分散于该第一位相差片(防伪标签)与第二位 相差片(辨识装置)之隐藏图样区域与背景区域之 加总位相差分别是1/2及0或是0及1/2为最 佳。 8.如申请专利范围第6项所述之位相差式防伪方法, 其中该偏极光产生及过滤装置之偏光片可为线性 偏光片、椭圆偏光片或圆偏光片。 9.如申请专利范围第6项所述之位相差式防伪方法, 其中该偏光片可以结合其他必要元件组成模组。 10.如申请专利范围第1项所述之位相差式防伪方法 ,其中该偏极光产生及过滤装置可为一偏光片与一 偏极态保留性质之反射层以及一光源,其中偏光片 及反射层放置于该第一位相差片(防伪标签)与该 第二位相差片(辨识装置)适当重叠后整体之上方 与下方,该光源则入射于偏光片后,则可显示隐藏 图样。 11.如申请专利范围第10项所述之位相差式防伪方 法,其中分散于该第一位相差片(防伪标签)与第二 位相差片(辨识装置)之隐藏图样区域与背景区域 之加总位相差分别是1/4及0或是0及1/4为 最佳。 12.如申请专利范围第10项所述之位相差式防伪方 法,其中该辨识装置之偏光片可为线性偏光片、椭 圆偏光片或圆偏光片。 13.如申请专利范围第10项所述之位相差式防伪方 法,其中该偏光片及偏极态保留性质之反射层可以 结合其他必要元件组成模组。 图式简单说明: 第1图,系本发明位相差式防伪方法示意图。 第2图,系本发明位相差片示意图。 第3图,系本发明具有二位相差片之防伪方法示意 图。 第4图,系本发明利用条纹图方式之位相差片示意 图。 第5图,系本发明辨识装置与位相差片结合之示意 图。 第6图,系本发明之穿透式辨识装置与单一位相差 板结合示意图。 第7图,系本发明之穿透式辨识装置与单一位相差 板之光路示意图。 第8图,系本发明之穿透式辨识装置与二位相板结 合示意图。 第9图,系本发明各种位相差片与穿透式辨识装置 结合后相对应隐藏图样区域与背景区域透光率之 比较图。 第10图,系本发明之另一穿透式辨识装置示意图。 第11图,系本发明之反射式辨识装置与单一位相差 板示意图。 第12图,系本发明之反射式辨识装置与二位相板示 意图。 第13图,系本发明之另一反射式辨识装置示意图。 |
