发明名称 曝光用大型基板
摘要 本发明之解决手段为:一种曝光用大型基板,是对角长度或直径为500mm以上,且厚度为1~20mm之平板状的曝光用大型基板,其特征为:外周面的面粗糙度Ra为0.05~0.4μm。其效果为:若根据本发明的曝光用大型基板的话,则由于可大幅地减低:在洗净时由基板外周部面释出之粒子,故能够提升大型基板之洗净成品良率。又,由于可进行基板之搬运,故能够不需导入搬运设备而提升基板品质。
申请公布号 TW200510260 申请公布日期 2005.03.16
申请号 TW093121379 申请日期 2004.07.16
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 草开大介;柴野由纪夫
分类号 C03C3/06 主分类号 C03C3/06
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本