| 摘要 |
本发明系叙述一种可订制之腔室光谱响应，其至少可被用来调控用于晶圆加热、晶圆冷却、温度量测及散射光线的腔室功能。本发明在某方面系描述一种用于加工处理物件之系统，而该处理物件在处理物件温度下具有既定的发射光谱，其可使得处理物件产生处理物件辐射能。这个腔室一方面会回应加热装置辐射能，另一方面还会回应入射到处理物件上之辐射能。这个腔室可能首先会反射大部分的热源辐射能，另一方面则是吸收大部分的处理物件辐射能。这个腔室的不同部分可以基于设计上的考量而被处理成具有选择性的反射率，而达到有关特别腔室功能参数的目标。 |
