发明名称 微影装置,器件制造方法,及其制造之器件
摘要 本发明系关于一种微影投影装置,其包含:一辐射系统,用于提供一辐射投影光束;一支持结构,用于支持图案化构件,该图案化构件用于根据所需图案图案化投影光束;一基板固持器,包含界定突出组态之复数个突出部分,用于提供一大体上平坦之支持平面以支持一大体上平坦之基板,该基板固持器包含用于产生一电场以由该电场将一基板夹持到该基板固持器之至少一个箝位电极;该基板固持器进一步包含配置成接触一基板之一周边支持边缘;及一投影系统,用于将该图案化光束投影于该基板之一目标部分。根据本发明,该至少一个电极延伸出该周边支持边缘外。
申请公布号 TW200510776 申请公布日期 2005.03.16
申请号 TW093120509 申请日期 2004.07.08
申请人 ASML公司 发明人 乔斯特 杰洛恩 欧登斯;札克 亚德里安 鲁道夫 凡 安培尔;ADRIAAN RUDOLF;科恩 杰可布斯 乔翰尼斯 玛利亚 泽尔;JACOBUS JOHANNES MARIA
分类号 G02B27/18;G03F7/207 主分类号 G02B27/18
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰