| 发明名称 | 用于光学擦除在制造集成电路过程中累积的电荷的过程 | ||
| 摘要 | 一种用于通过光学手段减少集成电路中的电荷累积的过程包括将所述集成电路或者其中部分暴露在宽带辐射源下。该过程有效地减少了在制造集成电路中产生的电荷累积。 | ||
| 申请公布号 | CN1596467A | 申请公布日期 | 2005.03.16 |
| 申请号 | CN02823776.5 | 申请日期 | 2002.12.02 |
| 申请人 | 艾克塞利斯技术公司 | 发明人 | A·亚诺斯;I·贝里;A·辛诺特;K·斯图尔特 |
| 分类号 | H01L21/8247 | 主分类号 | H01L21/8247 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 邹光新;王忠忠 |
| 主权项 | 1.一种用于去除在集成电路的制造期间的电荷累积的过程，该过程包括：将该集成电路曝光在一种强度的宽带辐射图案下一段时间，所述的强度和时间可以有效地减少在集成电路制造期间的电荷累积。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||