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发明名称
Method of forming a mask pattern in a semiconductor device
摘要
申请公布号
KR100471345(B1)
申请公布日期
2005.03.10
申请号
KR20020081586
申请日期
2002.12.20
申请人
发明人
分类号
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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